Marketing

Wardah Gandeng 8 Desainer di IFW 2017

Wardah Gandeng 8 Desainer di IFW 2017

Untuk kedua kalinya, Wardah kembali menjadi official makeup dan hair do di Indonesia Fashion Week 2017 (IFW). Dalam IFW tahun ini, Wardah menggandeng 8 desainer ternama Indonesia yaitu Zaskia Sungkar, Dian Pelangi, Ria Miranda, Nourma Hauri, HAPPA by Mel Ahyar, Malik Moestaram, Barli Asmara, dan Kursien Karzai untuk berkolaborasi menampilkan karyanya.

“Indonesia Fashion Week merupakan salah satu ajang mode terbesar di Indonesia. Karena itu, untuk pelaksanaan IFW tahun ini, Wardah kembali memberikan dukungan sebagai official makeup dan hair do. Kami juga berinisiatif untuk mengadakan acara Wardah Road to IFW 2017 agar gaung IFW 2017 sudah bergema sebelum acara berlangsung,” ujar Salman Subakat, Direktur Pemasaran Wardah. Kedelapan desainer ini akan menampilkan karyanya dengan tema besar YOUniverse Celebration of Colors.

Selain berkolaborasi dengan desainer, Wardah turut bekerja sama dengan 4 makeup artis untuk menciptakan tren makeup 2017 yang bertemakan genuine, brave, serine, dan faithful. Masing-masing desainer akan membawakan satu tema yang mewakili satu gaya riasan. “Ada 3 produk Wardah yang menjadi highlight dalam tren makeup 2017 ini yaitu optimum hi-black liner, intense matte liptick, dan exclusive matte lip cream,” ujar Rifina Yanurita Afandi, Brand Manager Wardah.

Melalui IFW ini, Rifina menambahkan, makeup untuk pagelaran busana harus awet dan tidak boleh gampang luntur. Dalam pagelaran mode yang diselenggarakan mulai dari tanggal 1 hingga 5 Februari 2017 ini, Wardah mengerahkan 90-100 makeup artist untuk merias dan juga menata rambut para model.

Melalui Wardah Road to IFW 2017, Wardah ingin menekankan bahwa kolaborasi antara industri makeup dan fesyen menjadi semakin lengkap dengan dukungan para selebriti. Selama ini, selebriti memang lekat dengan kedua industri tersebut sehingga dukungan dari para selebriti sangat membantu perkembangan industri makeup dan fesyen.

Editor : Eva Martha Rahayu


© 2023-2024 SWA Media Inc.

All Right Reserved